1. 反応焼結法とは、シリコン粉末、またはシリコン粉末と窒化ケイ素粉末の混合物を一般的なセラミックス製品の製造方法に従って成形する方法です。 その後窒化炉にて1150～1200℃で予備窒化を行います。 ある程度の強度が得られた後、工作機械で機械加工し、さらに1350〜1450度で18〜36時間、すべてが窒化ケイ素になるまで窒化します。 。 このようにして製造される製品は、寸法が正確で、量が安定しています。
2. ホットプレス焼結ルールは、少量の添加剤（MgO、Al2O3、MgF2、AlF3 または Fe2O3 など）を含む窒化ケイ素粉末を 19.6MPa 以上および 1600 〜の圧力で加熱成形および焼結することです。 1700度。 一般に、ホットプレス焼結で作られた製品は、反応焼結で作られた製品よりも密度が高く、性能が優れています。 これら 2 つの方法で製造された窒化ケイ素セラミックスの特性を付録表 1 に示します。
3. スパークプラズマ焼結は、より純粋なバルク材料を調製できるもう 1 つの方法です。 圧縮された粉末は、非常に短い時間 (数秒) で電流パルスにさらされます。 この方法では、1500-1700度で使用できます。 この温度で、緻密で緻密な窒化ケイ素ブロックが得られる。
