陰極アークプラズマ蒸着技術を使用。 カソード アーク プラズマ デポジションは比較的新しい薄膜デポジション技術であり、多くの点でイオン プレーティングに似ています。 その利点: 放出された粒子流のイオン化率が高く、これらのイオン化イオンは高い運動エネルギー (40-100eV) を持ちます。
密着性の向上、状態密度の増加、化合物膜形成に対する高い反応性など、イオン ビーム デポジションの利点の多くは、すべてカソード アーク プラズマ デポジションに反映されています。 陰極アークプラズマ蒸着には、高い蒸着速度、良好なコーティング均一性、低い基板温度、理想的な化学比を持つ化合物または合金の容易な調製により、より複雑な形状の基板上に蒸着できるなど、独自の利点があります。 。
カソード材料は、高電流密度による蒸発プロセスによって蒸発し、その結果生じる蒸発物は、電子、イオン、中心気相原子および粒子で構成されます。 陰極のアーク点では、材料はほぼ即座にイオン化されます。 イオンは陰極表面に対してほぼ垂直な方向に放出されます。 高エネルギーのクロムイオンが窒素に衝突すると、直ちに化学反応が起こり、ガス状になります。 窒化クロムの分子。
